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      duv光刻機和euv光刻機區(qū)別是什么

      璟琰乀 ? 來源：php中文網、科創(chuàng)板日報、 ? 作者：php中文網、科創(chuàng)板 ? 2022-07-10 14:53 ? 次閱讀
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      目前，光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術，EUV使用的是深紫外光刻技術。EUV為先進工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv光刻機和euv光刻機區(qū)別是是什么呢？

      duv光刻機和euv光刻機區(qū)別

      1.基本上duv只能做到25nm，而euv能夠做到10nm以下晶圓的生產。

      2. duv主要使用的是光的折射原理，而euv使用的光的反射原理，內部必須是真空操作。

      以上就是duv光刻機和euv光刻機區(qū)別了，現在基本都是euv光刻機。

      文章綜合php中文網、科創(chuàng)板日報、百度百科

      編輯：何安

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