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      新EUV光刻機(jī)售價(jià)超26億，Intel成為首位買家，將于2025年首次交付

      汽車玩家 ? 來(lái)源：網(wǎng)絡(luò)整理 ? 作者：網(wǎng)絡(luò)整理 ? 2022-06-28 15:07 ? 次閱讀
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      在芯片研發(fā)的過(guò)程中，光刻機(jī)是必不可少的部分，而隨著芯片制程工藝的不斷發(fā)展，普通的光刻機(jī)已經(jīng)不能滿足先進(jìn)制程了，必須要用最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)才能完成7nm及其以下的先進(jìn)制程，而目前臺(tái)積電和三星都在攻克3nm制程，據(jù)了解，更加先進(jìn)的制程就需要更先進(jìn)的光刻機(jī)來(lái)完成了。

      光刻機(jī)廠商ASML為此正在研發(fā)新一代High NA EUV光刻機(jī)，這種EUV光刻機(jī)的NA數(shù)值孔徑比現(xiàn)在0.33口徑的EUV光刻機(jī)還要高，達(dá)到了0.55口徑，也就是說(shuō)High NA EUV光刻機(jī)的分辨率更高，能夠進(jìn)行更加先進(jìn)制程的加工。

      目前芯片巨頭Intel已經(jīng)搶先成為了第一個(gè)訂購(gòu)到High NA EUV光刻機(jī)的廠商，該款High NA EUV光刻機(jī)型號(hào)定為了High-NA EXE:5200，單臺(tái)售價(jià)已經(jīng)超過(guò)了26億人民幣，預(yù)計(jì)將在2023年完成原型機(jī)的制造，并在2025年首次交付給Intel。

      不只是Intel，臺(tái)積電方面也表示將在2024年引入新一代High NA EUV光刻機(jī)，三星甚至讓副會(huì)長(zhǎng)李在镕親自出馬，趕往ASML與其高層會(huì)面洽談新一代光刻機(jī)相關(guān)事宜。

      綜合整理自 PConline 驅(qū)動(dòng)之家 21ic電子網(wǎng)

      審核編輯 黃昊宇

      聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題，請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
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        <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的分類與原理

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