完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>
標(biāo)簽 > 光刻
光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個主要工藝。是對半導(dǎo)體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進(jìn)行開孔,以便進(jìn)行雜質(zhì)的定域擴散的一種加工技術(shù)。
文章:296個 視頻:33個 瀏覽:31119次 帖子:5個
【新啟航】玻璃晶圓 TTV 厚度在光刻工藝中的反饋控制優(yōu)化研究
一、引言 玻璃晶圓在半導(dǎo)體制造、微流控芯片等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛,光刻工藝作為決定器件圖案精度與性能的關(guān)鍵環(huán)節(jié),對玻璃晶圓的質(zhì)量要求極為嚴(yán)苛 ??偤穸绕睿═...
光阻去除(即去膠工藝)屬于半導(dǎo)體制造中的光刻制程環(huán)節(jié),是光刻技術(shù)流程中不可或缺的關(guān)鍵步驟。以下是其在整個制程中的定位和作用:1.在光刻工藝鏈中的位置典型...
2025-07-30 標(biāo)簽:光刻半導(dǎo)體制造 821 0
ADI 數(shù)據(jù)采集解決方案在先進(jìn)光刻芯片制造領(lǐng)域大放異彩l
作者:Pete Bartolik 投稿人:DigiKey 北美編輯 在半導(dǎo)體芯片銷售額從 2022 年的 6000 億美元增至 2030 年的 1 萬億...
2025-05-25 標(biāo)簽:芯片ADI數(shù)據(jù)采集 573 0
本文系統(tǒng)梳理了直寫式、多電子束與投影式EBL的關(guān)鍵技術(shù)路徑,涵蓋掃描策略、束流整形、鄰近效應(yīng)校正與系統(tǒng)集成等方面,并探討其在精度、效率與成本間的技術(shù)矛盾...
本文將系統(tǒng)介紹光阻的組成與作用、剝離的關(guān)鍵工藝及化學(xué)機理,并探討不同等離子體處理方法在光阻去除中的應(yīng)用。 ? 一、光阻(Photoresist,PR)的...
2025-02-13 標(biāo)簽:光刻半導(dǎo)體制造 3.1k 0
1
2
國科大《集成電路先進(jìn)光刻技術(shù)與版圖設(shè)計優(yōu)化》課程分享之二:浸沒式光刻工藝缺陷種類、特征及自識別方法
標(biāo)簽:光刻半導(dǎo)體工藝 7775 1
EUV光刻技術(shù)如何為功率半導(dǎo)體提供動力立即下載
類別:電子資料 2023-02-15 標(biāo)簽:光刻功率半導(dǎo)體EUV 746 0
類別:模擬數(shù)字論文 2022-06-29 標(biāo)簽:光刻蝕刻GaAs 671 0
圖1 肘形圖形為目標(biāo)圖形,不同方法得到的全息掩模分布、空間像與光刻膠輪廓 近日,中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機械研究所高端光電裝備部李思坤研究員團(tuán)隊在全息光刻...
白光干涉儀在晶圓光刻圖形 3D 輪廓測量中的應(yīng)用解析
引言 晶圓光刻圖形是半導(dǎo)體制造中通過光刻工藝形成的微米至納米級三維結(jié)構(gòu)(如光刻膠線條、接觸孔、柵極圖形等),其線寬、高度、邊緣粗糙度等參數(shù)直接決定后續(xù)蝕...
一、引言 在半導(dǎo)體制造、微機電系統(tǒng)(MEMS)等高新技術(shù)領(lǐng)域,1um 以下光刻深度、凹槽深度和寬度的精確測量至關(guān)重要。這類微小尺寸的測量精度直接影響產(chǎn)品...
極紫外光刻(EUVL)技術(shù)作為實現(xiàn)先進(jìn)工藝制程的關(guān)鍵路徑,在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域占據(jù)著舉足輕重的地位。當(dāng)前,LPP-EUV 光源是極紫外光刻機所采用的主流光源...
用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕光刻膠剝離液及白光干涉儀在光刻圖形的測量
引言 在顯示面板制造的 ARRAY 制程工藝中,光刻膠剝離是關(guān)鍵環(huán)節(jié)。銅布線在制程中廣泛應(yīng)用,但傳統(tǒng)光刻膠剝離液易對銅產(chǎn)生腐蝕,影響器件性能。同時,光刻...
低含量 NMF 光刻膠剝離液和制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量
引言 在半導(dǎo)體制造過程中,光刻膠剝離液是不可或缺的材料。N - 甲基 - 2 - 吡咯烷酮(NMF)雖在光刻膠剝離方面表現(xiàn)出色,但因其高含量使用帶來的成...
進(jìn)入過無塵間光刻區(qū)的朋友,應(yīng)該都知道光刻區(qū)里用的都是黃燈,這個看似很簡單的問題的背后卻蘊含了很多鮮為人知的道理,那為什么實驗室光刻要用黃光呢? 光刻是微...
2025-06-16 標(biāo)簽:光刻 870 0
TFT-LCD 顯示屏光刻膠剝離方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量
引言 在 TFT-LCD 顯示屏制造工藝中,光刻膠剝離是關(guān)鍵工序之一,其效果直接影響顯示屏的質(zhì)量與性能。隨著 TFT-LCD 技術(shù)向高分辨率、窄邊框方向...
換一批
編輯推薦廠商產(chǎn)品技術(shù)軟件/工具OS/語言教程專題
| 電機控制 | DSP | 氮化鎵 | 功率放大器 | ChatGPT | 自動駕駛 | TI | 瑞薩電子 |
| BLDC | PLC | 碳化硅 | 二極管 | OpenAI | 元宇宙 | 安森美 | ADI |
| 無刷電機 | FOC | IGBT | 逆變器 | 文心一言 | 5G | 英飛凌 | 羅姆 |
| 直流電機 | PID | MOSFET | 傳感器 | 人工智能 | 物聯(lián)網(wǎng) | NXP | 賽靈思 |
| 步進(jìn)電機 | SPWM | 充電樁 | IPM | 機器視覺 | 無人機 | 三菱電機 | ST |
| 伺服電機 | SVPWM | 光伏發(fā)電 | UPS | AR | 智能電網(wǎng) | 國民技術(shù) | Microchip |
| Arduino | BeagleBone | 樹莓派 | STM32 | MSP430 | EFM32 | ARM mbed | EDA |
| 示波器 | LPC | imx8 | PSoC | Altium Designer | Allegro | Mentor | Pads |
| OrCAD | Cadence | AutoCAD | 華秋DFM | Keil | MATLAB | MPLAB | Quartus |
| C++ | Java | Python | JavaScript | node.js | RISC-V | verilog | Tensorflow |
| Android | iOS | linux | RTOS | FreeRTOS | LiteOS | RT-THread | uCOS |
| DuerOS | Brillo | Windows11 | HarmonyOS |