9.5.9 KrF和ArF深紫外光刻膠∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書(shū)》
DUV Photoresist for KrF and ArF
撰稿人：北京科華微電子材料有限公司 陳昕
審稿人：復(fù)旦大學(xué) 鄧海
9.5 光掩模和光刻膠材料
第9章 集成電路專(zhuān)用材料
《集成電路產(chǎn)業(yè)全書(shū)》下冊(cè)
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光刻膠
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一文解讀光刻膠的原理、應(yīng)用及市場(chǎng)前景展望
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